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芯源微(688037)打破TEL绝对垄断,推动涂胶显影设备国产化

芯源微(688037)打破TEL绝对垄断,推动涂胶显影设备国产化
  沈阳芯源微(688037)电子成立于2002年,与中微半导体、北方华创、盛美半导体、上海睿励等同样耕耘10多年,致力于集成电路工艺设备国产化。公司是国内唯一一家研发与制造涂胶显影设备的企业,目前已有前道I-line涂胶显影机在长江存储上线进行工艺验证,前道Barc(抗反射层)涂胶设备在上海华力通过验证,已陆续获得株洲中车、青岛芯恩、上海积塔、宁波中芯、昆明京东方、厦门士兰等多个前道大客户的订单,涂胶显影设备的进口替代已经起航。
  支撑评级的要点
  国内集成电路工艺设备企业中,芯源微电子是定位于涂胶显影设备的唯一厂商。沈阳芯源微电子成立于2002年,和睿励、安集微电子、盛美半导体、上海微、中微半导体、北方微等老牌国产半导体设备制造商一样,诞生于同一个时代,至今已有18年经营历史和技术积淀。公司集成电路客户主要包括台积电、上海华力、中芯国际、长江存储、华为、华天科技、长电科技、通富微电等。
  全球涂胶显影设备市场规模将增至25亿美元,EUV工艺是增量。根据VLSI、TEL等的预计,2022-2023年全球涂胶显影设备市场规模将达到25亿美元,相比2018年,EUV工艺是整体市场规模增量的主要来源。中国(含台湾地区)前道涂胶显影设备销售额预计由2018年的8.96亿美元,增至2023年的10.26亿美元。
  国内外涂胶显影设备被TEL垄断,国产化处于初期。全球涂胶显影设备市场上TEL市占率达到87%,而DNS、SEMES、Suss等合计占比仅为13%。TEL在中国大陆涂胶显影设备市场中的市占率约超过90%,我国涂胶显影设备的国产化率不超过5%,一线主流客户的涂胶显影设备国产化率接近为零,远低于刻蚀设备、清洗设备、CMP和PVD设备国产化进程。
  芯源的涂胶显影设备已进入多条晶圆产线。通过多年的技术积累以及承担国家02重大专项,芯源已经成功掌握多种涂胶显影核心技术,并拥有多项自主知识产权。尽管芯源的涂胶显影设备尚处于产业化初期,但其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证,可满足客户0.18μm技术节点加工工艺;前道Barc(抗反射层)涂胶设备已在上海华力上线测试应用,可满足客户28nm技术节点加工工艺。
  估值
  根据我们对国产化率及国内晶圆厂建设进度的判断,预计芯源微未来3-5年内业绩高速增长,并参考A股半导体板块估值,首次给予买入评级。
  风险因素
  晶圆厂扩产不如预期;供应商供货不稳定、技术突破受阻等风险。

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